光刻胶迎来代替窗口期，南大光电（300346.SZ）亦被市场挖掘聚焦。

5月27日晚间，南大光电在股票异动公告中披露了其光刻胶项目最新进展。

南大光电称，公司承接的国家“02专项”之ArF光刻胶产品的开发和产业化项目的基础建设按计划进行，目前正处于光刻胶样品验证阶段，验证过程预计需要12-18个月，甚至更长的时间。

实际上，如今备受关注的南大光电光刻胶项目早在2018年就开始启动。

21世纪经济报道记者查询发现，南大光电于2018年12月22日发布公告，称由其作为牵头单位承担的国家“02专项”ArF光刻胶产品的开发与产业化项目，已经国家科技部批准立项。

该项目总投资额为6.56亿元，其中，国拨资金1.93亿元，地方配套资金1.97亿元，南大光电使用首发上市时的超募资金1.5亿元用于本项目投资。

据当时公告，该项目拟通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品满足集成电路行业需求标准。同时建成先进光刻胶分析测试中心和高分辨率光刻胶研发中心。

“我国对进口芯片的依赖严重威胁着国家的信息安全。高档光刻胶材料作为集成电路制造最为关键的基础材料之一，几乎完全依赖于进口，已经严重制约了我国集成电路产业的自主发展。”南大光电当时如此宣称ArF光刻胶的重要战略意义和经济价值。

到了2019年12月14日，南大光电又公告对ArF光刻胶产品的开发与产业化项目实施主体的全资子公司宁波南大光电进行增资2.6亿元，并引进宁波金帆、天津南晟及许从应对其合计投资8000万元。

南大光电称，宁波南大光电增资扩股并引入外部投资者，有利于加快公司ArF 光刻胶产品的开发与产业化项目的建设进度，推动光刻胶板块的战略布局。

南大光电今年5月27日晚间公告显示，其ArF光刻胶开发和产业化项目2019年底完成一条生产线的安装，今年5月开始进行安装调试，预计安装调试需要4-5个月的时间。

南大光电表示，公司制备ArF（193nm）光刻胶用的高纯原材料来源于自主研发，研制出的ArF（193nm）光刻胶样品正在供客户测试。

南大光电还称，ArF（193nm）光刻胶产品开发技术突破难度大、工艺要求高，且实现稳定量产周期较长，后续是否能取得下游客户的订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。

(作者：张望 编辑：朱益民）