过去几十年，中国经济取得了飞速的发展，GDP超越日本，成为全球第二。与此同时，中国也诞生了一批非常优秀的企业，华为、阿里、腾讯等等。
但是，我们又不得不承认日本是名副其实的制造强国。特别是在制造业领域，无论在基础制造业，还是应用型制造业方面，其强大的实力令我们难以望其项背。
其中，最典型的一点就体现在芯片上，中国芯片企业有很强的设计能力，但却没有生产能力。在集成电路、汽车、电子、显示面板等高端产业上，更是缺少像华为这样的企业。
谈到光刻机，大家都知道比较有名的是荷兰ASML光刻机，作为全球最顶尖的光刻机制造商，尤其在高端光刻机领域，可以说独步江湖。
但由于产量有限，所以ASML光刻机设备一直都处于“供不应求”的局面，而全球光刻机设备几乎都被台积电、三星这两家芯片代工巨头所垄断。
从市场份额来看，虽然ASML垄断着全球最高端EUV光刻机市场，但并不意味着在中低端低一家独大。放眼全球，除了荷兰的ASML之外，还有日本索尼、尼康和佳能等巨头。
但曾几何时，日本佳能在光刻机方面的地位，可以喝ASML平起平坐。只不过，后来ASML工艺水平逐渐壮大，而佳能的研发停滞不前。
然而，正当大家意味佳能逐渐放弃光刻机的时候，日本佳能宣布强势入局光刻机市场，并计划于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”，用来抢占高功能半导体市场。
这是时隔7年后，佳能首次更新了面向小型基板的半导体光刻机。 它不仅支持硅晶圆，还支持碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等常见的化合物半导体材料，主要用于汽车电气化的大功率器件和用于5G通信的高带宽视频处理和通信器件。
此时佳能宣布重回半导体市场，就是希望通过推进多种半导体的战略，获得更多海外订单，从而确立在光刻机市场中的地位。
当然了，佳能如果能够在光刻机领域取得突破，对于我国而言也是一件好事。毕竟，受制于外部压力，我们无法进口ASML光刻机，也无法从台积电等厂商那采购芯片。
面对已经到来的5G万物互联时代，5G芯片、AI芯片、AIOT芯片等需求量剧增，而满足物联网设备芯片，只需要中低端的芯片制造工艺就可以满足。
因此，即便是在ASML一家独大的背景下，中低端DUV光刻机设备依旧还有非常庞大的市场需求，但这无疑也让荷兰ASML公司感到焦虑。
事实上，早在去年10月，就有消息称有中企打算向尼康、佳能出资，携手来研发EUV以外的新型光刻机。作为曾经的光刻机一霸，想必佳能也对中国市场产生了一定的兴趣。
让我们共同期待佳能新型光刻机的到来，也期待国产半导体能够实现新的发展，相信在不久的未来，国产光刻机也能有所突破，肩负起科技振兴的使命。
来源：电子发烧友、数码科技大爆炸、海峡财经资讯、大有看头等公开资料
（作者：正商参阅 ）
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