新凯来全年唯一参展，带来两款新设备

21世纪经济报道记者林典驰 深圳报道

10月14日，2026湾区半导体产业生态博览会在深圳会展中心（福田）启幕。

新凯来现场展出了刻蚀、扩散、薄膜、光学检测、光学量测、电子光学量检测、物理与X射线量测设备。

与去年湾芯展一样，新凯来展出的16座“名山”，几乎覆盖半导体制造全流程装备。

记者从新凯来展台获取到的一份新凯来装备介绍手册中，意外出现了此前从未展出的两座名山。

其中包括光学检测方向的PMI（六盘山）图形掩模缺陷检测。此前的产品手册里只有莫干山，涉及空白掩模缺陷检测，没有六盘山这个系列。

除此之外，在电子光学量检测方面，mEBI（井冈山）多电子束晶圆缺陷检测，主要用于芯片研发及量产中的纳米级尺寸及电性缺陷检测，集成AI缺陷检测、定位和分类，这是新凯来新增的品类。

记者向新凯来展台工作人员询问，对方仅表示，此次湾芯展并未展出这两款新设备，仅在产品手册里列出。