重大突破！我国新一代光刻机模型亮相
11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。
上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆。SSC800整体性能跻身行业第一梯队。
基于全栈自主可控技术底座，关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。
（来源：上海证券报）
（作者：21视频 编辑：陈泽锴 视频编辑：陈泽锴）
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